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水性树脂反应釜是无压力设备吗?
是的,水性树脂反应釜通常是无压力设备。由于水性树脂在反应过程中不产生气体或蒸汽,因此不需要施加压力来控制反应。这使得水性树脂反应釜相对于其他需要压力控制的反应器更加安全和简便。
熔体泵\反应釜输送熔体泵在塑料和化工行业的应用?
熔体泵主要用于高温高粘度聚合物熔体的输送、增压、计量。国外广泛应用于塑料、树脂、橡胶、化纤制品的挤出成型。如:造粒、薄膜、管材、板材、片材、人造纤维、光导纤维、医用塑料导管等行业。
随着机械工业的日益发展,熔体泵在国内市场也逐渐地被行业人士所***纳、应用。 熔体泵是一种正位移输送装置,流量与泵的转速呈严格的正比关系。主要由泵壳、主动齿轮、从动齿轮、滑动轴承、前后端板、填料密封等组成。
由两个齿轮的齿廓、泵体、侧盖板构成了泵的进料区、输料区和排料区。
工作时依靠主、从动齿轮的相互啮合造成的工作容积变化来输送熔体。
工作容积由泵体、齿轮的齿槽及具有侧板功能的轴承构成(即进料区)。
当齿轮按规定方向旋转时,熔体即进入进料区两齿轮的齿槽中,随着齿轮转动,熔体从两侧被带入输料区,齿轮的再度啮合,使齿槽中的熔体被挤出排排出区,压送到出口管道。
只要泵轴转动,齿轮就向出口侧压送熔体,因此泵出口可达到很高的压力,而对进口流量与压力则无太高要求,甚至可以做到进口真空吸入。 熔体泵广泛应用于塑料、树脂、橡胶制品的挤出成型,如造粒、薄膜、管材、板材片材等行业,按齿向可分为直齿、斜齿、人字齿等。
口舌之争带崩一个板块?光刻胶真的“很难”吗?
半导体出现大幅下跌,说是口舌之争引起的,我以为是无稽之谈,这是有关人员往自己脸上贴金。半导体板块出现回落的原因,只有一个,就是涨的太多了,获利筹码开始兑现利润出货了。但是要说到光刻胶真的很难,这倒是符合实际情况,根据知乎上查到的说法:是光刻胶行业被日本和美国公司垄断,日本厂商占主导地位。全品类光刻胶市场中,全球前五大厂商就占据了光刻胶市场87%的份额,其中,日本四家厂商——东京应化、JSR、信越化学、富士胶片占据了72%的市场份额;先进的高分辨率KrF和ArF半导体光刻胶已占全球半导体光刻胶的63%,该核心技术亦被日本和美国企业垄断,其中日本厂商占KrF光刻胶的市场份额达到了83%,占ArF光刻胶的市场份额达到了91%;在EUV光刻胶方面,日本公司富士胶片、信越化学、住友化学专利数排名前三位,前十大企业中七席被日本公司占据。日本光刻胶企业在全球光刻胶市场中占据绝对的支配地位。
所有光刻胶真的难
光刻胶主要分为三大类,分别为:
1)集成电路半导体;2)面板;3)PCB。
从全球的格局上来看此三类光刻胶分别占据了全球光刻胶市场约 25%,而中国光刻胶产业链,中国半导体光刻胶的占比仅有 2%,LCD(面板)仅为 3%,而最为简单 PCB 光刻胶占比高达 94%。
主要集中在低端的PCB光刻胶上。
整体来看,全球光刻胶行业主要被 JSR、东京应化、罗门哈斯、信越化学、及富士合理 占据,前五大家占据了全球光刻胶领域的 86%;
如若聚焦到全球半导体用光刻胶领域, 前六大家(主要以日本为主)实现了对于市场的 87%的占据。
而半导体国产光刻胶的发展速度远远慢于其他产业,原因在于:
1. 光刻胶的验证周期长。光刻胶批量测试的过程需要占用晶圆厂机台的产线时间,在产能紧张的时期测试时间将会被延长。测试的过程需要与光刻机、掩膜版及半导体 制程中的许多工艺步骤配合,付出成本极高。通常面板光刻胶验证周期为 1-2 年, 半导体光刻胶为 2-3 年。但验证过之后便会形成长期供应关系,甚至在未来会推动 企业之间的联合研发。
2. 原材料成膜树脂具有专利壁垒。树脂的合成难度高,通常光刻胶厂商在合成一种树脂后会申请相应的专利,目前树脂结构上的专利主要被日本公司占据。
3. 光刻胶产品品类多,配方需要满足差异化需求。根据产品需求来调配适合的树脂来满足差异化需求对于光刻胶企业来说是一大难点,也是光刻胶制造商最核心的技术。
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